理科学・計測機器事業
日本電子の中核事業。電子顕微鏡・分析機器を世界に展開するグローバル事業。
| 期間 | 今期 | 前期 | 増減率 |
|---|---|---|---|
| 売上高 | 19,488百万円 | 21,361百万円 | ↓ |
| セグメント利益(営業損失) | △271百万円 | △375百万円 | ↑ |
| 売上高前年同期比 | △8.8% | - | ↓ |
事業詳細
電子光学機器(透過電子顕微鏡・電子プローブマイクロアナライザ等)、分析機器(核磁気共鳴装置・質量分析計等)、計測検査機器(走査電子顕微鏡・集束イオンビーム加工観察装置等)で構成。大学・研究機関・半導体・ライフサイエンス分野等を主要顧客とし、当第1四半期の外部顧客への売上高19,488百万円はグループ全体(24,465百万円)の約8割を占める最大セグメント。国内外の販売子会社網を通じてグローバルに展開している。
直近の概況
中国向け免税手続き遅延等により売上減、営業損失は前年同期比縮小。
当第1四半期連結累計期間の売上高は19,488百万円(前年同期比8.8%減)となった。中国の大学・研究機関向け輸入免税制度の更新手続きの遅延等が主因。セグメント利益は△271百万円の損失となったが、前年同期の△375百万円からは損失幅が縮小した。なお、報告セグメントは従来の3区分から「医用機器事業」を当連結会計年度の期首に事業譲渡したことに伴い、「理科学・計測機器事業」「産業機器事業」の2区分に変更されている。
主要プロダクト
成長ドライバー
- 電子顕微鏡を中心とした最先端分野の研究開発や半導体、ライフサイエンス分野など幅広い需要への対応
- 新中期経営計画「Evolving Growth 2.0 -A New Horizon-」(2025年度~2029年度)における重点戦略の推進による企業価値向上と経営基盤強化
- 中国大学・研究機関向け輸入免税制度の更新手続き完了後の需要回復期待
- 半導体・ライフサイエンス分野の研究開発関連需要の継続
リスク
- 中国の大学・研究機関向け輸入免税制度の更新手続き遅延による売上への影響継続リスク
- 資源・エネルギー価格の高止まりや物価上昇の継続
- 米国をはじめとする各国の通商政策の動向や中東情勢等の地政学的リスクの高まりによる先行き不透明感
- 為替レートの変動リスク
- 売上・利益が第4四半期に集中する傾向による四半期業績の変動性
産業機器事業
半導体製造向け電子ビーム描画装置等を展開する高収益セグメント
| 期間 | 今期 | 前期 | 増減率 |
|---|---|---|---|
| 売上高(第1四半期) | 4,976百万円 | 14,455百万円 | ↓ |
| セグメント利益(第1四半期) | 221百万円 | 7,183百万円 | ↓ |
| セグメント利益率(第1四半期) | 4.4% | 49.7% | ↓ |
事業詳細
電子ビーム描画装置(シングルビームマスク描画・スポットビーム型・マルチビームマスク描画)、電子ビーム金属3Dプリンター、高周波電源等を製造販売する。主要顧客は半導体マスク製造・先端材料加工分野。2027年3月期第1四半期は一部案件の売上計上時期の影響や輸出規制強化の影響を受け、売上高4,976百万円(前年同期比65.6%減)、セグメント利益221百万円(前年同期7,183百万円)と大幅な減収減益となった。なお、当連結会計年度期首に医用機器事業を事業譲渡したことに伴い、報告セグメントは「理科学・計測機器事業」と「産業機器事業」の2つに変更されている。
直近の概況
一部案件の売上計上時期と輸出規制強化の影響で大幅減収減益
2027年3月期第1四半期は、先端ノード向けマルチビームマスク描画装置が一部案件の売上計上時期の影響を受け、シングルビームマスク描画装置は特定地域向け案件における輸出規制強化の影響を受けたことにより、売上高が前年同期を大きく下回った。一方でスポットビーム型電子ビーム描画装置は受注が堅調に推移した。この結果、当事業の売上高は4,976百万円(前年同期比65.6%減)、セグメント利益は221百万円となった。会社は通期業績予想について、これらの影響は概ね期初計画に織り込み済みであり、事業の進捗も想定範囲内で推移しているとして、通期予想に変更はないとしている。なお、当社の売上・利益は第4四半期に集中する傾向がある。
主要プロダクト
成長ドライバー
- スポットビーム型電子ビーム描画装置:AIデータセンター向け光トランシーバ用DFBレーザーの高性能化・多様化を背景とした量産工程向け需要の拡大期待
- シングルビームマスク描画装置の中長期的な受注・売上の堅調推移期待
- マルチビームマスク描画装置の市場環境回復の兆しによる中長期的な需要立ち上がり
- 半導体製造プロセスの高度化に伴うマスク描画装置需要の中長期的拡大
- 中期経営計画「Evolving Growth 2.0 -A New Horizon-」(2025年度~2029年度)における半導体分野への戦略的成長投資継続
- 電子ビーム金属3Dプリンターによる新規市場開拓
リスク
- 先端ノード向けマルチビームマスク描画装置における売上計上時期のばらつきによる四半期業績のブレ
- 特定地域向け案件における輸出規制強化の影響(シングルビームマスク描画装置の売上減少要因)
- 半導体市況の変動による設備投資サイクルへの依存リスク
- 米国の関税政策・輸出規制強化による半導体関連顧客への影響リスク
- 中国の半導体内製化政策・地政学リスクによる需要変動リスク
- 米国政府による科学技術関連予算削減など先行き不透明な国際情勢の継続
- 売上・利益が第4四半期に集中する傾向があることによる四半期業績の変動性
医用機器事業
生化学自動分析装置を中核とする医療・臨床検査向け機器事業(2026年4月にシスメックスへ譲渡完了)
| 期間 | 今期 | 前期 | 増減率 |
|---|---|---|---|
| 売上高 | 14,926百万円 | 15,418百万円 | ↓ |
| セグメント利益(営業利益) | 64百万円 | 662百万円 | ↓ |
| 売上高営業利益率 | 0.4% | 4.3% | ↓ |
| セグメント資産 | 18,002百万円 | 13,909百万円 | ↑ |
| グループ売上高構成比 | 8.3% | 7.8% | — |
事業詳細
自動分析装置(生化学自動分析装置)を主力製品とし、国内外の医療機関・臨床検査機関向けに製造販売を行う。2026年3月期の売上高は14,926百万円(前期比3.2%減)、セグメント利益は64百万円と大幅に低下。2026年4月1日付で会社分割(簡易吸収分割)により新設子会社に事業を承継し、同社全株式をシスメックス株式会社へ譲渡。日本電子グループとしては当該事業から撤退済みである。
直近の概況
2026年4月にシスメックスへ事業譲渡完了、日本電子グループから切り離し
2026年3月期の売上高は14,926百万円(前期比3.2%減)と小幅減収にとどまったが、セグメント利益は64百万円(前期662百万円)と大幅に悪化し、利益率は0.4%まで低下した。生化学自動分析装置を中心に受注・売上は堅調と記載されるも、収益性は著しく低下。2026年4月1日付で会社分割(簡易吸収分割)により新設子会社(シスメックスBioMajesty株式会社に商号変更)に事業を承継し、全株式をシスメックス株式会社へ譲渡。譲渡価額・損益は算定中で未確定。
主要プロダクト
成長ドライバー
- 国内医療機関における生化学自動分析装置の安定的な更新・新規需要(事業譲渡前実績として)
- シスメックスグループ傘下での事業拡大・シナジー創出(譲渡後の新体制下)
リスク
- 2026年4月1日付でシスメックスへ事業譲渡完了済みのため、日本電子グループとしては当セグメントは消滅(2027年3月期以降は連結業績に含まれない)
- 譲渡価額・譲渡損益が現時点で未確定であり、確定次第で日本電子の財務諸表に影響が生じる可能性
- 2026年3月期のセグメント利益が64百万円(利益率0.4%)と前期比で大幅悪化しており、事業譲渡前の収益性が著しく低下していた
- 中国の内製化政策による海外市場での受注・売上低迷(中国売上高642百万円、前期330百万円から増加も依然低水準)
- 為替変動リスク(北中南米2,354百万円、中国642百万円等の海外売上)
最終更新: 2026年8月14日

