株式会社フェローテック6890
半導体等装置関連事業
半導体・製造装置向けマテリアル・部品洗浄を核とする最大セグメント
| 期間 | 今期 | 前期 | 増減率 |
|---|---|---|---|
| 売上高 | 185,139百万円 | 165,245百万円 | ↑ |
| 営業利益 | 16,048百万円 | 12,305百万円 | ↑ |
| 営業利益率 | 8.7% | 7.4% | ↑ |
| 減価償却費 | 21,323百万円 | 18,313百万円 | ↑ |
| 連結売上高に占める構成比 | 64.1% | 60.2% | ↑ |
事業詳細
真空シール、各種製造装置向け金属加工製品、石英製品、セラミックス製品、CVD-SiC製品、シリコンパーツ、石英坩堝の生産および装置部品洗浄サービスを提供。主要顧客は米国・中国・欧州の半導体製造装置メーカーおよびデバイスメーカー。2026年3月期売上高185,139百万円は連結売上高288,933百万円の約64.1%を占める中核セグメント。製造拠点は日本・中国・マレーシア等にグローバル展開。
直近の概況
AI投資・装置需要拡大で売上高12.0%増、営業利益30.4%増の大幅増益
2026年3月期は、旺盛な生成AI投資継続と半導体製造装置需要の伸長を背景に、真空シール・金属加工製品・セラミックス製品が米国・中国メーカーからの注文増で大幅増収。工場稼働率の回復により石英製品・部品洗浄も売上を伸長。工場稼働率向上・新工場の利益改善・製品構成改善が奏功し、営業利益は前期比30.4%増の16,048百万円と大幅増益。一方、CVD-SiC製品は中国工場立上げ難航でやや減収、石英坩堝も太陽光向け出荷抑制で減収となった。
主要プロダクト
成長ドライバー
- 生成AI投資継続に伴う半導体製造装置需要の拡大（WFE予想値の上方修正）
- 2026年以降のメモリ製造設備への設備投資増加による消耗品・部品需要の拡大
- 工場稼働率向上および新工場の利益改善による収益性の改善
- 増強した加工能力を背景とした欧米・中国メーカーニーズの取り込み
- 微細化プロセス向け高付加価値洗浄サービスによる部品洗浄事業の成長
- マレーシア・日本（石川・熊本）への生産拠点多様化による顧客地域戦略への対応
リスク
- 増産投資に伴う減価償却費の高水準継続（2026年3月期：21,323百万円）による利益圧迫
- 太陽光パネル市場の低迷継続による石英坩堝の採算悪化リスク
- CVD-SiC製品の中国工場立上げ難航による収益貢献遅延リスク
- 米中半導体摩擦・米国関税政策の影響による中国向け需要の不確実性
- 再生ウエーハ事業の持分法適用会社化に伴う売上高・営業利益の計上消滅
- 半導体製造装置（WFE）マーケットの設備投資サイクル変動リスク
最終更新: 2026年6月25日