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株式会社フジミインコーポレーテッド

5384東証プライムガラス・土石製品

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株式会社フジミインコーポレーテッド5384

日本

国内製造・販売の中核セグメントで、グループ売上の約57%を占める最大拠点

期間今期前期増減率
売上高(外部顧客)39,450百万円35,464百万円
セグメント利益(営業利益)11,401百万円9,722百万円
セグメント資産69,934百万円49,438百万円
設備投資額(有形・無形固定資産増加額)22,746百万円12,422百万円
減価償却費1,433百万円1,299百万円
セグメント間内部売上高11,520百万円10,485百万円

事業詳細

当社(フジミインコーポレーテッド)および南興セラミックス株式会社で構成される国内セグメント。シリコンウェハー向け研磨材(ラッピング材・ポリシング材)、CMP製品、ハードディスク基板向け研磨材、一般工業用研磨材等を製造・販売する。北米・アジア向けの内部振替も担う製造拠点としての役割も大きく、セグメント間内部売上高は11,520百万円(2026年3月期)に上る。

直近の概況

CMP製品・ポリシング材が牽引し売上高11.2%増、営業利益17.3%増を達成

2026年3月期の日本セグメントは、先端半導体向けCMP製品およびシリコンウェハー向けポリシング材の販売増加により、売上高39,450百万円(前期比11.2%増)、セグメント利益11,401百万円(前期比17.3%増)を達成。一方、大型設備投資(有形・無形固定資産増加額22,746百万円)に伴いセグメント資産が前期比20,496百万円増加。先端技術・機能材料および枇杷島工場において合計369百万円の減損損失を計上した。

主要プロダクト

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CMP製品

半導体製造工程における化学機械研磨(CMP)に使用するスラリー・パッド等。AI関連需要を背景に先端ロジックおよび先端メモリ向けの販売が増加しており、グループ全体のCMP製品売上高は36,135百万円(前期比17.9%増)。日本セグメントが主要製造拠点を担う。

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シリコンウェハー向け研磨材(ポリシング材)

シリコンウェハーの鏡面仕上げ工程に使用するポリシングスラリー。グループ全体の売上高は13,384百万円(前期比5.4%増)。日本セグメントにおいて販売増加が業績を牽引した主要製品の一つ。

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シリコンウェハー向け研磨材(ラッピング材)

シリコンウェハーの形状加工・粗研磨工程に使用するラッピング材。グループ全体の売上高は7,590百万円(前期比0.4%増)とほぼ横ばい。北米セグメントでは小口径向けが減少した一方、日本セグメントでは一定の販売を維持。

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一般工業用研磨材(研磨ソリューション)

金属・セラミックス・光学部品等の一般工業用途向け研磨材。前期に子会社化した南興セラミックスの販売が加わったことなどにより、グループ全体の一般工業用研磨材売上高は6,426百万円(前期比18.7%増)。

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溶射材・先端技術機能材料

各種溶射プロセス向け粉末材料および先端技術・機能材料。当期において先端技術・機能材料に属する一部固定資産について予想しえない市況変化により減損損失305百万円を計上(岐阜県各務原市の開発設備)。

成長ドライバー

  • 先端半導体向けCMP製品の需要拡大(先端ロジック・先端メモリ向け販売増、グループCMP製品売上高前期比17.9%増)
  • シリコンウェハー向けポリシング材の販売好調(グループ全体で前期比5.4%増)
  • 南興セラミックス子会社化による一般工業用研磨材の売上拡大(グループ全体で前期比18.7%増)
  • AI関連需要を背景とした半導体市場の継続的成長による顧客設備投資の拡大
  • 大規模設備投資(有形固定資産増加額22,746百万円)による生産能力増強と供給体制強化

リスク

  • PC・スマートフォン・車載向け半導体需要の回復遅延による販売鈍化リスク
  • 中国経済減速および米国関税措置による世界経済不透明感の継続
  • 大規模設備投資(建物及び構築物純額が前期比19,845百万円増)に伴う固定費・減価償却費の増加と稼働率リスク
  • 先端技術・機能材料分野における市況変化リスク(当期に減損損失305百万円を計上)
  • 半導体市況への依存度が高く、非半導体分野の売上構成比が計画を下回るリスク
  • 原材料の調達難・価格高騰によるサプライチェーンリスク

最終更新: 2026年6月19日