事業内容
ジオマテック株式会社は1953年創業の薄膜技術専業メーカーで、東京証券取引所スタンダード市場に上場する。ディスプレイ向け（液晶パネル用帯電防止膜・カバーパネル用反射防止・防汚膜等）、半導体・電子部品向け（テストウエハー・次世代エネルギー部材・ヒーター・センサー等）、その他（g.moth®等ナノ構造体製品・成膜加工関連部材等）の3品目区分で事業を展開する。
宮城県金成工場・兵庫県赤穂工場・東京工場を主要生産拠点とし、ジャパンディスプレイ・シャープディスプレイテクノロジー等の大手電子部品・ディスプレイメーカーを主要顧客とする。2026年3月期の売上高は6,009百万円。
ビジネスモデル
原材料（成膜対象基板等）を顧客から有償・無償支給または自社調達し、スパッタリング等の薄膜成膜技術を用いて加工した製品を販売する受託加工型ビジネスを基本とする。加えて成膜関連部材の販売や表面加工ソリューション取引も手掛ける。
試作・単品開発を顧客課題解決の入口として位置づけ、量産受注へ繋げる開発連動型の営業モデルを採用している。
企業の強み
1953年の創業以来、真空成膜・ITO膜・スパッタリング等の薄膜技術を継続的に深化させ、ディスプレイ・半導体・電子部品・ナノ構造体と幅広い品目への応用実績を持つ。研究開発費は2026年3月期に223百万円を投じており、ファンアウトパッケージ・MEMSデバイス・GaNテンプレートウエハー等12テーマの技術開発を推進している。
宮城県金成工場・兵庫県赤穂工場・東京工場の国内3拠点体制を維持し、2026年3月期に製造設備148百万円を含む総額176百万円の設備投資を実施した。営業活動によるキャッシュ・フローは1,256百万円と前期比162.7%増加し、自己資本比率61.0%・現金及び現金同等物4,029百万円と財務基盤も安定している。
g.moth®（モスアイ構造反射防止）・g.slip®（高滑落性機能材料）・g.black™（無反射黒色シート）等の独自ブランドナノ構造体製品を保有し、汎用薄膜加工と異なる技術的参入障壁を形成している。これらは「その他」品目区分に含まれ、2026年3月期も安定的な売上を維持している。
エンヴァリスの着眼点
業績トレンド
2024期の低迷（営業利益△656百万円）から2025期・2026期に増収増益で回復し、2026期は売上高6,009百万円・営業利益341百万円・純利益639百万円まで改善した。2027年3月期1Qは売上高1,420百万円（前年同期比4.5%増）、営業利益169百万円（同8.1%増）と増収増益を継続。
しかし本日修正の通期予想では売上高5,850百万円（前期比2.6%減）と減収に転じる一方、営業利益500百万円（同46.5%増）・経常利益535百万円（同24.6%増）は大幅増益予想となり、収益性は改善するが規模は縮小するという非対称な見通しとなっている。当期純利益は法人税等調整額の影響もあり507百万円（同20.6%減）予想。
成長戦略
半導体・電子部品向け需要取り込みとナノ構造体製品の拡大により多角化を推進
AI関連投資拡大やデータセンター需要を背景に、テストウェハー・産業用プリンターヘッド向け受注に加え先端デバイス及び次世代技術分野向けの新規試作受託を拡大。当第1四半期は前年同期比26.0%増の550百万円を達成。
独自開発のナノ構造体製品の受注が当第1四半期に増加。既存の薄膜加工技術の応用による新規用途開拓として、成膜加工関連事業以外の収益源多角化を推進している。
北米・欧州を中心とした車載生産の回復により車載向け液晶ディスプレイパネルの受注が増加。一方カバーパネル受注は減少しており、品目内でのポートフォリオ最適化が課題。
最終更新: 2026年8月7日