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Industrial Process事业

以半导体市场为主轴的曝光用灯・光学装置制造销售业务

期间本期上期增减率
销售额(全年・2026年3月期)77,142百万日元78,932百万日元
分部利润(全年・2026年3月期)6,486百万日元9,623百万日元
分部资产(全年・2026年3月期)170,773百万日元138,930百万日元
折旧费(全年・2026年3月期)3,560百万日元3,009百万日元
有形固定资产及无形固定资产增加额(全年・2026年3月期)10,988百万日元8,195百万日元
分部利润率(全年・2026年3月期)8.4%12.2%

业务详情

以半导体・电子器件・印刷电路板市场为主要客户,提供曝光用灯、OA用灯、光学器件用灯、曝光装置(投影式・直描式)、EUV光刻用掩模检测用EUV光源以及保养维护服务。在新增长战略「Revive Vision 2030」中被定位为重点业务,将半导体先进封装市场的增长扩大作为战略性增长驱动因素。以包括国内外合并子公司的全球体制展开业务。自2026年3月期起,随着收购ams-OSRAM AG光源事业,新设子公司USHIO INE GmbH被纳入合并范围。

近期概况

减收减益。曝光装置需求回升滞后及前期投资扩大压制了利润

2026年3月期Industrial Process事业销售额为77,142百万日元(同比减少2.3%),分部利润为6,486百万日元(同比减少32.6%)。曝光用灯・光学器件用灯受生成式AI半导体相关需求支撑实现增收,另一方面,投影曝光装置受传统数据中心用途投资抑制持续影响,EUV光源受维护收入减少影响,均出现减收。利润方面,除减收外,数字光刻装置等前期投资扩大以及因曝光装置需求回升滞后而产生的滞留资产等一次性评估损失的计提均产生影响,导致利润大幅下滑。因收购ams-OSRAM AG光源事业(设立USHIO INE GmbH),分部资产同比增加31,843百万日元。

主要产品

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曝光用灯

受个人电脑・智能手机等终端产品需求回复以及生成式AI半导体相关需求支撑,已安装设备的开工率保持坚挺,销售增加。2026年3月期实现增收。

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光学器件用灯

以智能手机・平板电脑用有机EL显示器为中心,平板显示器市场开工率呈缓慢回升趋势,面向平板显示器及热处理工艺的销售增加,实现增收。

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曝光装置(投影式・直描式)

直描式曝光装置受生成式AI用服务器需求增加影响销售增加。另一方面,投影曝光装置受传统数据中心需求低迷及以往过度投资影响,投资抑制持续,销售减少。整体呈减收。数字光刻装置正在扩大前期投资。

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EUV光刻用掩模检测用EUV光源

因成本削减要求导致单价下降及开工率下降,维护服务收入减少。下一期由于对部分在用EUV掩模检测用光源做出终止决定,维护收入预计将进一步减少。

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OA用灯

随着无纸化推进,加上日元升值影响,出现减收。结构性需求下降趋势持续。

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光配向装置

因液晶面板相关投资低迷,销售减少,出现减收。在液晶面板市场持续低迷的情况下,需求回升前景不明朗。

成长驱动力

  • 生成式AI相关半导体需求扩大带动直描式曝光装置(DLT)销售持续增加
  • 半导体先进封装市场增长带动投影曝光装置订单・询价增加(基板厂商设备投资回升)
  • 收购ams-OSRAM AG光源事业(USHIO INE GmbH)带来光源事业整体增收效果
  • 智能手机・平板电脑用有机EL显示器需求增加带动光学器件用灯销售扩大
  • 来自数字光刻装置相关厂商的订单・询价呈增加趋势
  • 作为新增长战略「Revive Vision 2030」重点业务的增长・开发投资及资源集中投放

风险

  • 数字光刻装置全面启动时间延迟(半导体市场基板大型化技术采用延迟)
  • 曝光装置需求回升滞后导致的滞留资产等评估损失计提风险持续存在
  • DLT等曝光装置相关前期投资扩大(开发费・人事费增加)带来的短期利润压力
  • EUV掩模检测用光源部分终止决定导致的维护收入减少
  • 液晶面板市场持续低迷导致光配向装置及相关灯具需求减少
  • 日元升值导致出口销售额受汇率影响(2026年3月期平均汇率:1美元兑150日元,同比升值3日元)
  • 美国关税措施影响及地缘政治风险导致市场环境不确定性
  • 功率半导体等电子器件需求不明朗状况持续

最近更新: 2026年6月25日