AIメカテック株式会社 logo

AIメカテック株式会社

6227東証スタンダード機械

AIメカテック株式会社 logo
AIメカテック株式会社6227

IJPソリューション事業

FPD・光学系デバイス向けIJP・ナノインプリント装置を提供する先端技術セグメント

期間今期前期増減率
売上高(第3四半期累計・2026年6月期)1,421百万円366百万円(前年同期)
セグメント損益(第3四半期累計・2026年6月期)-567百万円-103百万円(前年同期)
売上高(通期・2025年6月期)573百万円
セグメント損益(通期・2025年6月期)-222百万円
前年同期比売上高増減率(第3四半期累計)+288.9%

事業詳細

インクジェット・プリンティング(IJP)応用、ナノインプリント応用、フィルム応用の3分野で構成。有機ELディスプレイ・マイクロディスプレイ(OLEDoS、μLEDoS)向け薄膜形成装置、ARスマートグラス用ウェーブガイド形成システム、フレキシブルデバイス向けロールツーロールシステム等を開発・製造・販売する。持分法適用関連会社ナノリソティックス株式会社との合弁を通じたナノインプリントリソグラフィー事業も展開。顧客はAR/VRデバイスメーカーやディスプレイパネルメーカーが中心。

直近の概況

売上高は前年同期比288.9%増と急拡大も、損失幅は拡大

2026年6月期第3四半期連結累計期間(2025年7月〜2026年3月)のIJPソリューション事業の売上高は1,421百万円(前年同期比288.9%増)と大幅増収を達成。マイクロディスプレイ向け一括封止ラインの出荷進捗が主因。一方、セグメント損失は567百万円(前年同期は102百万円の損失)と損失幅が拡大した。シリコンフォトニクス半導体向けなど新規適用分野の需要も確認されており、合弁会社を通じたナノインプリントリソグラフィー事業の立ち上げにも引き続き注力している。

主要プロダクト

product
マイクロディスプレイ向け一括封止ライン(IJP装置)

AR/VRデバイス向けマイクロディスプレイの量産工程に対応した一括封止ライン。2026年3月期第3四半期累計期間において出荷が進み、顧客からの引き合いも継続している。シリコンフォトニクス半導体向けなど新たな適用分野への展開も確認されている。

product
ナノインプリント形成装置(光学系デバイス向け)

合弁会社ナノリソティックス株式会社を通じて展開するナノインプリントリソグラフィー事業の中核製品。タブレット等の反射防止パターン形成システムの事業立ち上げに注力中。シリコンフォトニクス半導体向けなど新規適用分野への展開も進める。

product
フィルム貼合せ装置・ロールツーロール応用システム

フレキシブルディスプレイや光学フィルム製造向けのロールツーロール方式プロセス装置。フィルム応用分野における顧客の製造プロセス高度化ニーズに対応する。

成長ドライバー

  • AR/VRスマートグラス等最終アプリケーション市場の拡大に伴うマイクロディスプレイ向け設備投資の回復・増加
  • 合弁会社ナノリソティックス株式会社を通じたナノインプリントリソグラフィー事業(タブレット反射防止パターン形成、シリコンフォトニクス向け)の立ち上げ・受注獲得
  • シリコンフォトニクス半導体向けなど新たな適用分野における需要の顕在化
  • OLEDoS・μLEDoS等次世代マイクロディスプレイの量産化需要の本格化
  • 中期経営計画(2026〜2028年6月期)においてIJPソリューション事業への経営資源集中投入方針を明示
  • 新装置組立建屋クリーンルーム活用による生産能力向上

リスク

  • 顧客の設備投資計画の見直し・延期による受注・出荷の翌期以降へのずれ込みリスク
  • AR/VRグラス等最終アプリケーション市場の立ち上がり遅延による需要跛行性リスク
  • ナノインプリントリソグラフィー事業の顧客検証プロセス長期化・事業化遅延リスク
  • 売上高急拡大にもかかわらず損失幅が拡大しており、固定費・開発費負担による収益化遅延リスク
  • 2025年6月期に減損損失283百万円を計上しており、固定資産の追加減損リスク
  • 持分法による投資損失(グループ全体で当第3四半期累計26百万円)が継続するナノリソティックス社の事業化遅延リスク

最終更新: 2025年9月25日